K&Rが日本総代理店を務めるCeraco Ceramic Coating GmbH社(独)が作る超伝導薄膜は、共蒸着法(co-evaporation method)を用いて作られます。様々な単結晶基板上に均一性の良い高品質な成膜が可能です。
成膜に使われる代表的な単結晶基板につきましては、下記ご参照下さい。
基板 |
サイズ※1 |
バッファ層 |
成膜厚み (nm) |
|---|---|---|---|
MgO |
10x10mm~2″φ |
なし |
50~1500 |
サファイア |
10×10~50x50mm、2″φ～4″φ等 |
CeO2 |
~300※2 |
SrTiO3 |
10×10~20x20mm |
CeO2 |
~1000 |
LaAlO3 |
10×10~20x20mm, 2″φ等 |
CeO2 |
~1000 |
YSZ |
10×10~20x20mm |
CeO2 |
~1000 |
※１ 市場にて安定納期で入手可能な基板のサイズを記載しています。その他サイズにもご対応可能な場合がございます。
成膜自体は8″φまで可能です。
※２ サファイア基板と超伝導膜の熱膨張率がミスマッチする関係から
成膜可能厚みが最大300nmまでとなっております。
Mタイプ (Y & Cu rich)
Tc > 87K
Jc(77K) > 2MA/cm2
Rs ＜ 500uΩ （@77K,10GHz)
※ 上記保証値は薄膜厚みが >300nmの場合です 。
（主な用途）
マイクロ波デバイス
High Jc application
FCL（超伝導限流器）
Sタイプ (Cu rich)
Tc > 86K
Jc (77K) > 1.5MA/cm2
※ 上記保証値は薄膜厚みが >300nmの場合です。
（主な用途）
SQUID、Micron-linewidth patterning
また、超伝導膜上にAuコンタクトレイヤー(40~200nm)やCeO2キャップレイヤー(10~100nm)の成膜、
及び成膜後のパターニング（この場合は図面のご提出をお願い致します）も承っております。
お問い合わせ時は
① 成膜面（片面or両面）
② 成膜厚み
③ フィルムタイプ（M or S）
④ 基板、サイズ
⑤ 数量
をご教示いただけましたら、スムーズにお見積もりを差し上げることが出来ます。
