Tapestar（XL, XL-HF, XL-W）
ホール素子法により、線材のIc値測定や局所劣化を素早く発見することが出来るTHEVA社製の超伝導線材特性評価装置です。
世界中の線材メーカー様がこのテープスターを使用して自社の線材品質を評価されており、今や超伝導業界にこの装置は欠かせなくなっております。
スペックシートは下記よりご参照下さい。
捕捉磁場やLevitation forceに優れたCAN SUPERCONDUCTORS社製の超伝導バルク体(YBCOバルク、GdBCOバルク、EuBCOバルク)を取り扱っております。
超伝導バルクは超伝導フライホイールや医療分野(MRI、NMR)などの分野への応用が期待されている製品です。CAN社製超伝導バルク体は高品質かつ廉価なため、多くのお客様よりご支持いただいております。
どうぞお気軽にお問合せ下さい。
材料 |
YBCO、GdBCO/Ag、EuBCO/Ag |
|---|---|
基本組成 |
RE1.8 Ba2.4 Cu3.4 Ox + additives |
育成方法 |
TSMG (Top Seeded melt growth) SDMG(Single-direction melt growth、※ R&Dの段階です) |
臨界温度 |
~90K |
主要サイズ |
14mmφ ～ 66mmφ ※ GdBCOでは100mmφにご対応可能です。 現在、GdBCOのさらなる大口径化とEuBCOの90mmφ～を目指し、日々R&Dを推進しております。 ※ サイズや厚みの調整、リング・扇台形などの特殊形状にもご対応可能です。 |
その他 |
材質の特性上、製品に若干のチッピングが入っている場合がございます。 |
YBCOバルク
サイズ |
磁気浮上力 (min/std)※1 |
外径※2・厚み公差 |
捕捉磁場 (std)※3 |
|---|---|---|---|
14mmφ x 6mm t |
20N/ 25N |
+/-0.7mm +/-0.1mm |
0.7T |
21mmφ x 8mm t |
40N/ 45-55N |
+/-1.0mm +/-0.1mm |
0.8T |
25mmφ x 9mm t |
60N/ 60-70N |
+/- 1.2mm +/- 0.1mm |
0.85T |
28mmφ x 10mm t |
70N/ 85-100N |
+/- 1.3mm +/- 0.1mm |
0.9T |
35mmφ x 12mm |
100N/ 105-120N |
+/- 1.5mm +/- 0.1mm |
1.0T |
50mmφ x 15mm t |
300N/ 310-330N |
+/- 1.7mm +/- 0.1mm |
1.2-1.3T |
56mmφ x 16mm t |
330N/ 340-360N |
+/- 2mm +/- 0.1mm |
1.3-1.4T |
40x40x10mm t |
200N/ 220-250N |
+/- 0.1mm +/- 0.1mm |
1.1T |
40x40x12mm t |
200N/ 250N |
+/- 0.1mm +/- 0.1mm |
0.9T |
66x33x10mm t |
200N/ 220N |
+/- 0.1mm +/- 0.1mm |
0.9T |
80x32x10mm t |
220N/ 240N |
+/- 0.1mm +/- 0.1mm |
0.9T |
※1 Experimental condition (levitation force)
Magnet: NdFeB (N52), suitable sized magnet, Zero field cooling
77K-liquid nitrogen, 0.6mm/s feed rate
※2 角型バルク以外はas grownでの公差です。追加工でシビアな公差(+/- 0.1mm) にもご対応可能です。
※3 Experimental condition(trapped field)
External field 1.9T, Field cooling, 77K-liquid nitrogen, 1mm above surface (mapping), Handheld probe for peak value
Calibration of Hall sensors for 77K
GdBCOバルク
サイズ |
磁気浮上力 (std)※1 |
外径※2・厚み公差 |
捕捉磁場 (min/std)※3 |
|---|---|---|---|
28mmφ x 10mm t |
100N |
+/- 1.3mm +/- 0.1mm |
0.9T/ 1.1T |
35mmφ x 12mm t |
150N |
+/- 1.7mm +/- 0.1mm |
1.1T/ 1.3T |
50mmφ x 15mm t |
300N |
+/- 2.0mm +/- 0.1mm |
1.3T/ 1.6T |
102mmφ x 18mm t |
900-1000N |
+/- 5.0mm +/- 0.1mm |
– |
※1 Experimental condition (levitation force)
Magnet: NdFeB (N52), suitable sized magnet, Zero field cooling
77K-liquid nitrogen, 0.6mm/s feed rate
※2 角型バルク以外はas grownでの公差です。追加工でシビアな公差(+/- 0.1mm) にもご対応可能です。
※3 Experimental condition(trapped field)
External field 1.9T, Field cooling, 77K-liquid nitrogen, 1mm above surface (mapping), Handheld probe for peak value
Calibration of Hall sensors for 77K
EuBCOバルク
サイズ |
磁気浮上力 (std)※1 |
外径※2・厚み公差 |
捕捉磁場 (min/std)※3 |
|---|---|---|---|
28mmφ x 10mm t |
100N |
+/- 1.3mm +/- 0.1mm |
1.0T/ 1.2T |
35mmφ x 12mm t |
150N |
+/-1.7mm +/- 0.1mm |
1.2T/ 1.4T |
50mmφ x 15mm t |
330N |
+/- 2.0mm +/- 0.1mm |
1.5T/ 1.9T |
56mmφ x 16mm t |
360N |
+/- 2.0mm +/- 0.1mm |
1.7T/ 2.2T |
※1 Experimental condition (levitation force)
Magnet: NdFeB (N52), suitable sized magnet, Zero field cooling
77K-liquid nitrogen, 0.6mm/s feed rate
※2 角型バルク以外はas grownでの公差です。追加工でシビアな公差(+/- 0.1mm) にもご対応可能です。
※3 Experimental condition(trapped field)
External field 1.9T, Field cooling, 77K-liquid nitrogen, 1mm above surface (mapping), Handheld probe for peak value
Calibration of Hall sensors for 77K
K&Rが日本総代理店を務めるCeraco Ceramic Coating GmbH社(独)が作る超伝導薄膜は、共蒸着法(co-evaporation method)を用いて作られます。様々な単結晶基板上に均一性の良い高品質な成膜が可能です。
成膜に使われる代表的な単結晶基板につきましては、下記ご参照下さい。
基板 |
サイズ※1 |
バッファ層 |
成膜厚み (nm) |
|---|---|---|---|
MgO |
10x10mm~2″φ |
なし |
50~1500 |
サファイア |
10×10~50x50mm、2″φ～4″φ等 |
CeO2 |
~300※2 |
SrTiO3 |
10×10~20x20mm |
CeO2 |
~1000 |
LaAlO3 |
10×10~20x20mm, 2″φ等 |
CeO2 |
~1000 |
YSZ |
10×10~20x20mm |
CeO2 |
~1000 |
※１ 市場にて安定納期で入手可能な基板のサイズを記載しています。その他サイズにもご対応可能な場合がございます。
成膜自体は8″φまで可能です。
※２ サファイア基板と超伝導膜の熱膨張率がミスマッチする関係から
成膜可能厚みが最大300nmまでとなっております。
Mタイプ (Y & Cu rich)
Tc > 87K
Jc(77K) > 2MA/cm2
Rs ＜ 500uΩ （@77K,10GHz)
※ 上記保証値は薄膜厚みが >300nmの場合です 。
（主な用途）
マイクロ波デバイス
High Jc application
FCL（超伝導限流器）
Sタイプ (Cu rich)
Tc > 86K
Jc (77K) > 1.5MA/cm2
※ 上記保証値は薄膜厚みが >300nmの場合です。
（主な用途）
SQUID、Micron-linewidth patterning
また、超伝導膜上にAuコンタクトレイヤー(40~200nm)やCeO2キャップレイヤー(10~100nm)の成膜、
及び成膜後のパターニング（この場合は図面のご提出をお願い致します）も承っております。
お問い合わせ時は
① 成膜面（片面or両面）
② 成膜厚み
③ フィルムタイプ（M or S）
④ 基板、サイズ
⑤ 数量
をご教示いただけましたら、スムーズにお見積もりを差し上げることが出来ます。
２G超伝導線材マーケットでは、近い将来の実用化を目指し、世界中のメーカーが量産・コストダウンを進めております。
K&Rが日本総代理店を務めるTHEVA GmbH社製(独)はマーケットリーダーとして、圧倒的な生産力を備えた製造工場を開設し、
優秀なスタッフ陣のもと、優れた線材を提供しております。
基板には強固なハステロイC276を使用。
ISD法により中間層のMgO、PVDで超伝導層のGdBCO(GdBa2Cu3O7)、安定化層のAg、そして追加オプションで
Cuを積層しております。
＜ 取扱ラインナップ ＞
(1) THEVA Pro-Line TPL1100
(2) THEVA Pro-Line TPL1120
(3) THEVA Pro-Line TPL2100
(4) THEVA Pro-Line TPL2120
(5) THEVA Pro-Line TPL4121
(6) THEVA Pro-Line TPL5121
全て12mm幅ですが、4mm幅や6mm幅等、ご対応しております。
