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Tapestar(XL, XL-HF, XL-W)

ホール素子法により、線材のIc値測定や局所劣化を素早く発見することが出来るTHEVA社製の超伝導線材特性評価装置です。

世界中の線材メーカー様がこのテープスターを使用して自社の線材品質を評価されており、今や超伝導業界にこの装置は欠かせなくなっております。

スペックシートは下記よりご参照下さい。

Tapestar-XL

Tapestar-XLはスタンダードな長尺線材測定装置です。製品詳細はコチラから。

Tapestar-XL-HF

Tapestar-XL-HFは~1000mTの高磁場印加が可能になった上級モデルです。製品詳細はコチラから。

Tapestar-XL-W

Tapestar-XL-W は~40mmの幅広線材にも対応できる上級モデルです。製品詳細はコチラから。

捕捉磁場やLevitation forceに優れたCAN SUPERCONDUCTORS社製の超伝導バルク体(YBCOバルク、GdBCOバルク、EuBCOバルク)を取り扱っております。

超伝導バルクは超伝導フライホイールや医療分野(MRI、NMR)などの分野への応用が期待されている製品です。CAN社製超伝導バルク体は高品質かつ廉価なため、多くのお客様よりご支持いただいております。

どうぞお気軽にお問合せ下さい。

製品情報

材料

YBCO、GdBCO/Ag、EuBCO/Ag 

基本組成

RE1.8 Ba2.4 Cu3.4 Ox + additives

育成方法

TSMG (Top Seeded melt growth)

SDMG(Single-direction melt growth、※ R&Dの段階です)

臨界温度

~90K

主要サイズ

14mmφ ~ 66mmφ

 ※ GdBCOでは100mmφにご対応可能です             

現在、GdBCOのさらなる大口径化とEuBCOの90mmφ~を目指し、日々R&Dを推進しております。

※ サイズや厚みの調整、リング・扇台形などの特殊形状にもご対応可能です。

その他

材質の特性上、製品に若干のチッピングが入っている場合がございます。


YBCOバルク

サイズ

磁気浮上力 (min/std)※1

外径※2・厚み公差

捕捉磁場 (std)※3

14mmφ x 6mm t

20N/ 25N

+/-0.7mm +/-0.1mm

0.7T

21mmφ x 8mm t

40N/ 45-55N

+/-1.0mm +/-0.1mm

0.8T

25mmφ x 9mm t

60N/ 60-70N

+/- 1.2mm +/- 0.1mm

0.85T

28mmφ x 10mm t

70N/ 85-100N

+/- 1.3mm +/- 0.1mm

0.9T

35mmφ x 12mm

100N/ 105-120N

+/- 1.5mm +/- 0.1mm

1.0T

50mmφ x 15mm t

300N/ 310-330N

+/- 1.7mm +/- 0.1mm

1.2-1.3T

56mmφ x 16mm t

330N/ 340-360N

+/- 2mm +/- 0.1mm

1.3-1.4T

40x40x10mm t

200N/ 220-250N

+/- 0.1mm +/- 0.1mm

1.1T

40x40x12mm t

200N/ 250N

+/- 0.1mm +/- 0.1mm

0.9T

66x33x10mm t

200N/ 220N

+/- 0.1mm +/- 0.1mm

0.9T

80x32x10mm t

220N/ 240N

+/- 0.1mm +/- 0.1mm

0.9T

※1 Experimental condition (levitation force)
Magnet: NdFeB (N52), suitable sized magnet, Zero field cooling
77K-liquid nitrogen, 0.6mm/s feed rate

※2 角型バルク以外はas grownでの公差です。追加工でシビアな公差(+/- 0.1mm) にもご対応可能です。

※3 Experimental condition(trapped field)

External field 1.9T, Field cooling, 77K-liquid nitrogen, 1mm above surface (mapping), Handheld probe for peak value
Calibration of Hall sensors for 77K


GdBCOバルク

サイズ

磁気浮上力 (std)※1

外径※2・厚み公差

捕捉磁場 (min/std)※3

28mmφ x 10mm t

100N

+/- 1.3mm +/- 0.1mm

0.9T/ 1.1T

35mmφ x 12mm t

150N

+/- 1.7mm +/- 0.1mm

1.1T/ 1.3T

50mmφ x 15mm t

300N

+/- 2.0mm +/- 0.1mm

1.3T/ 1.6T

102mmφ x 18mm t

900-1000N

+/- 5.0mm +/- 0.1mm

※1 Experimental condition (levitation force)
Magnet: NdFeB (N52), suitable sized magnet, Zero field cooling
77K-liquid nitrogen, 0.6mm/s feed rate

※2 角型バルク以外はas grownでの公差です。追加工でシビアな公差(+/- 0.1mm) にもご対応可能です。

※3 Experimental condition(trapped field)

External field 1.9T, Field cooling, 77K-liquid nitrogen, 1mm above surface (mapping), Handheld probe for peak value
Calibration of Hall sensors for 77K


EuBCOバルク

サイズ

磁気浮上力 (std)※1

外径※2・厚み公差

捕捉磁場 (min/std)※3

28mmφ x 10mm t

100N

+/- 1.3mm +/- 0.1mm

1.0T/ 1.2T

35mmφ x 1.7mm t

150N

+/-1.7mm +/- 0.1mm

1.2T/ 1.4T

50mmφ x 15mm t

330N

+/- 2.0mm +/- 0.1mm

1.5T/ 1.9T

56mmφ x 1.6mm t

360N

+/- 2.0mm +/- 0.1mm

1.7T/ 2.2T

※1 Experimental condition (levitation force)
Magnet: NdFeB (N52), suitable sized magnet, Zero field cooling
77K-liquid nitrogen, 0.6mm/s feed rate

※2 角型バルク以外はas grownでの公差です。追加工でシビアな公差(+/- 0.1mm) にもご対応可能です。

※3 Experimental condition(trapped field)

External field 1.9T, Field cooling, 77K-liquid nitrogen, 1mm above surface (mapping), Handheld probe for peak value
Calibration of Hall sensors for 77K

K&Rが日本総代理店を務めるCeraco Ceramic Coating GmbH社(独)が作る超伝導薄膜は、共蒸着法(co-evaporation method)を用いて作られます。様々な単結晶基板上に均一性の良い高品質な成膜が可能です。

成膜に使われる代表的な単結晶基板につきましては、下記ご参照下さい。

基板

サイズ※1

バッファ層

成膜厚み (nm)

MgO

10x10mm~2″φ

なし

50~1500

サファイア

10×10~50x50mm、2″φ~4″φ等

CeO2

~300※2

SrTiO3

10×10~20x20mm

CeO2

~1000

LaAlO3

10×10~20x20mm, 2″φ等

CeO2

~1000

YSZ

10×10~20x20mm

CeO2

~1000

※1 市場にて安定納期で入手可能な基板のサイズを記載しています。その他サイズにもご対応可能な場合がございます。
成膜自体は8″φまで可能です。

※2 サファイア基板と超伝導膜の熱膨張率がミスマッチする関係から
成膜可能厚みが最大300nmまでとなっております。

Mタイプ (Y & Cu rich)

Tc > 87K             
Jc(77K) > 2MA/cm2
Rs 300nmの場合です 。

(主な用途)              
マイクロ波デバイス
High Jc application
FCL(超伝導限流器)


Sタイプ (Cu rich)

Tc > 86K
Jc (77K) > 1.5MA/cm2
※ 上記保証値は薄膜厚みが >300nmの場合です。

(主な用途)
SQUID、Micron-linewidth patterning

また、超伝導膜上にAuコンタクトレイヤー(40~200nm)やCeO2キャップレイヤー(10~100nm)の成膜、
及び成膜後のパターニング(この場合は図面のご提出をお願い致します)も承っております。

お問い合わせ時は
① 成膜面(片面or両面)
② 成膜厚み
③ フィルムタイプ(M or S)
④ 基板、サイズ
⑤ 数量

をご教示いただけましたら、スムーズにお見積もりを差し上げることが出来ます。

2G超伝導線材マーケットでは、近い将来の実用化を目指し、世界中のメーカーが量産・コストダウンを進めております。 

K&Rが日本総代理店を務めるTHEVA GmbH社製(独)はマーケットリーダーとして、圧倒的な生産力を備えた製造工場を開設し、
優秀なスタッフ陣のもと、優れた線材を提供しております。

基板には強固なハステロイC276を使用。
ISD法により中間層のMgO、PVDで超伝導層のGdBCO(GdBa2Cu3O7)、安定化層のAg、そして追加オプションで
Cuを積層しております。

< 取扱ラインナップ >

(1) THEVA Pro-Line TPL1100 

(2) THEVA Pro-Line TPL1120

(3) THEVA Pro-Line TPL2100

(4) THEVA Pro-Line TPL2120

(5) THEVA Pro-Line TPL4121

(6) THEVA Pro-Line TPL5121

全て12mm幅ですが、4mm幅や6mm幅等、ご対応しております。

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